扩散炉是半导体生产过程中经常使用的一种反应设备，可对厚膜材料进行氧化、硝化等化学反应，对芯片制作过程起着至关重要的作用。
扩散炉按其结构分为立式和卧式两种，其中立式扩散炉适合制作厚氧化膜和小尺寸芯片，卧式扩散炉适合制作硅晶圆和大尺寸芯片。无论是哪种结构，扩散炉本质上都是将反应物物质置于高温高压环境下，利用化学反应将气体分子沉积在半导体表面，形成所需的材料。
扩散炉是半导体生产线的重要组成部分，能够实现对各种材料的精确控制和加工，大大推进了集成电路产业的发展。此外，扩散炉还广泛用于太阳能电池板的制备和其他化学反应过程中。
