近日，有消息称“中科院成功研发新一代光刻机并申请了50多项专利”，引来了不少网民的关注。对此，中国科学院第二所物理研究所有关负责人表示，中科院自主研制的高精度光刻机软、硬件研发近年来一直在进行，但并未产生该消息所说的50多项专利申请，相关消息纯属误传。
据了解，光刻是晶圆制造技术中的重要环节之一，是当今半导体生产工艺中不可或缺的一部分，2019年光刻机的总产值达到了114亿美元。中科院自主研究高精度光刻机是大势所趋，但是需要克服的技术难题也不少，相关工作仍在积极推进中。
对于该消息的虚假性，引发网友对光刻机技术热烈讨论，认为转载传播不实消息会误导大众，同时也提醒大家应谨慎对待网络上的信息，不要盲目传播。